等离子清洗设备的原理是在真空状态下，疏水处理的目的，压力越来越小，分子间间距越来越大，分子间力越来越小，利用射频电源产生的高压交变电场将氧、、氢等工艺气体震荡成具有高反应活性或高能量的离子，然后与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，然后由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁活化的目的。是清洗方法中为的剥离式清洗，疏水处理，其大优势在于清洗后无废液，大特点是对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等都能很好地处理，可实现整体和局部以及复杂结构的清洗

亲水性（hydrophilic），对水具有亲合力的性能。如·：金属版材如铬、铝、锌及其生成的氢氧化物以及具有毛细现象的物质都有良好的亲水效果。在有机物中表现为羟基和羧基等的亲水性，玻璃疏水处理，即它们使该有机物易溶于水。 疏水性（hydrophobic），对水具有排斥能力的性能。如：印版图文的亲油成分和印刷油墨都具有良好的疏水性。在有机物中表现为和苯环等的疏水性，即它们使该有机物难溶于水。

当今社会已经进入了电子信息时代，微处理芯片的发明改变了世界，微电子、信息技术的水平已经被视为一个国家现代化水平高低的重要标志。硅经过提纯加工成单晶硅片，就是生产集成电路芯片的片基。亲水性和疏水性是硅片的重要物理性质，对硅片的后期加工起着重要的作用。当硅片本身的亲疏水性无法达到加工制造的要求时，就要对硅片进行亲疏水处理，使其满足加工制造的要求。

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