近年来，随着我国经济的高速发展和工业化、城市化进程的加快，大量的生活和工业废水排入水体，使人类赖以生存的饮用水水源日益受到污染。据报道，我国目前90％以上的饮用水水源为微污染水体，亲水处理方法，约有3亿人喝不上达标的饮用水，饮用水安全问题已经引起了社会各界的广泛关注。由于饮用水水源的不断恶化，传统的混凝、沉淀、过滤和消毒处理工艺已经难以满足日益严格的水质要求。在饮用水处理技术的更新换代中，与常规水处理工艺相比，膜分离技术具有出水稳定、安全性高、占地面积小、容易实现自动控制等优点，已经成为21世纪有应用价值的水处理技术之一。

纳滤膜分离是一种介于超滤膜分离与反渗透膜分离之间新型膜分离技术，被广泛应用于硬水软化、水中少量有机物的去除、染料提纯脱盐、不同分子量有机物的分离和纯化等诸多工业领域。目前的纳滤膜大多是水性的，主要针对以水为溶剂的体系，而根据亲疏水性不同，水体中污染物小分子可以分为亲水性物质、疏水性物质和中性物质；水性的纳滤膜难以同时去除亲水性物质、疏水性物质和中性物质。

目前，玻璃表面亲水处理，关于PDMS. 与硅基材料低温键合的方法多种多样。在制作硅- PDMS多层结构微阀的过程中，将PDMS直接旋涂、固化在硅片上，实现硅- PDMS薄膜直接键合，这种方法属于可逆键合，键合强度不高。在制作生物芯片时，利用氧等离子体分别处理PDMS和带有氧化层掩膜的硅基片，浙江亲水处理，将其键合在一起。此方法实际上是PDMS与SiO2掩膜层的键合，但在硅表面由热氧化法制得的SiO2膜层与PDMS的键合效果并不理想。

硅表面疏水性处理微观机理与亲水性处理机理相似，硅表面成为疏性的基本条件为B=A=r（SL）- r（SG）＞0

硅片表面必须由高能转化为低能表面。从上式可以看出:完成上述转化的条件为或者使 r（SG）下降，或者r（SL）上升。方法还是改变其表面结构，使 r（SG）减小。硅片经过特殊清洗液洗时，表面形成的自然氧化膜腐蚀掉，Si几乎不被腐蚀。硅片外层的Si儿乎以H键为终端结构，表面呈疏水性。

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